研究機器センターには、研究に欠かせない大型の測定装置が設置されています。教員、大学院生、学部学生の研究活動で利用します。民間企業や公的研究機関の技術者・研究者も利用可能な地域社会に開かれた施設です。
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原子サイズからミクロンのオーダーで薄膜を形成する装置。電子材料の開発や薄膜成長技術の研究開発や、集積回路（IC）、半導体メモリ、磁気記録媒体などの基盤技術の研究に用ます。
試料と基準物質の温度を変化させ、質量変化及び基準物質との温度差の測定や吸熱・発熱を定量的に測定します。また、試料の温度を変化させながら、圧縮、引張り、曲げなどによる試料の変形を測定します。高分子材料、有機材料、セラミック、食品などの特性評価に利用されています。
赤外光を物質に照射し透過または反射した光の強さからスペクトルを測定します。赤外スペクトルは分子の形や原子間の結合の強さを反映した分子固有の形をもち、物質の同定に利用します。本装置は顕微鏡を備え、単結晶や繊維などの微小領域を透過、反射、ATR 法を用いて分析できます。
紫外から可視領域の光を物質に照射して透過または反射した光の強さからスペクトルを測定します。吸収した光エネルギーから、その物質の電子状態に関する知見が得られます。本装置では、溶液、固体粉末および薄膜などの多様な形態の試料を透過、拡散反射、全反射法で分析できます。
金属、半導体、高分子等の表面にX線を照射し、元素組成の分析、電子状態の解析を行う。半導体デバイスの微細な構造部分の評価にも活用されています。
超伝導磁石の強磁場中で試料料液にラジオ波を照射し、特定の原子核（1H、13Cなど）の磁気的環境を測定します。機能性材料や医薬品、生体高分子などの有機化合物の分子構造や運動状態を原子レベルで解析することができます。5 号館と6 号館に合計3 台が設置されており、オートサンプラーを用いた連続自動測定による効率的な分析が可能です。
プローブ（探針）を金属、半導体などの試料表面上を走査することで、微小領域の表面形状や物性を測定します。探針と試料間で検出する物理量によって、原子間力顕微鏡(AFM)や摩擦力顕微鏡(FFM)として利用します。
半導体レーザーの光を試料に照射してラマン散乱光を分光。レーザー光を直径1μmまで絞ることで、試料の微細な部分のラマン分光が可能であり、半導体や超高温材料の研究などに用いられています。
Ｘ線を物質に照射し、ナノオーダーで物質の結晶構造を解析。合成した物質が目的の物質になっているか確認できる。半導体、磁性体、誘電体などの研究に活用されています。
固体表面のナノスケールの超微細な形態や組織構造を最大80 万倍で観察できる高性能な電子顕微鏡。半導体、太陽電池、セラミックスなどの材料の形態評価に活用されています。
反応液を高速に混合した後、瞬時に流れを止めて、その後の可視・紫外領域の吸収スペクトルなどの変化を高速で測定できます。酵素反応などの非常に速い反応速度の測定や短寿命中間体の検出が可能です。
磁場中に置かれた試料にマイクロ波を照射することで、物質中の不対電子の量や種類、相互作用の様子を調べます。電子材料や高分子材料の物性評価から、食品の劣化や生体内反応の解明まで、幅広い分野で利用されます。
φ3"ターゲット電極を3基備え、薄膜及び多層薄膜作製を目的とした実験用二極スパッタ装置です。
蛍光指紋での食品分析、有機ELや液晶などの工業材料分野、水質分析等の環境分野、蛍光試薬の構成や開発などの製薬分野、細胞内カルシウム濃度測定などのバイオ分野など、さまざまな分野での蛍光分析に用いられます。
半導体や金属などの無機物や高分子などの有機物の結晶性の粉末や薄膜の試料にＸ線に照射し、得られる回折情報から結晶構造の同定、結晶子サイズなどを測定します。本装置は、高出力Ｘ線源をもち、薄膜の面内測定も可能です。
HPLCあるいはGCで分離した物質をイオン化し、その相対質量電荷比を連続的に測定することで任意の保持時間でのマススペクトルを得ることができます。アジレント社製6470Triple Quad LC-MS、日本電子社製AccuTOF 4GLC-plusおよびAccuTOF GCXの3機種を設置しています。
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